离子溅射系统
<p> 离子溅射系统是一种基于物理气相沉积(PVD)的薄膜制备技术,广泛应用于材料科学、半导体制造等领域。本文从原理、核心组件和技术优势以及分类四方面展开分析。</p><p> 1. 工作原理。</p><p> - 溅射机制:氩离子在高真空环境中被电场加速轰击靶材表面,通过动量传递使靶材原子脱离并沉积到基片表面。</p><p> - 能量控制:通过调节电压(通常为300-1000V)和气体压力(0.1-10Pa)控制薄膜生长速率与致密性。</p><p> 2. 系统组成。</p><p> -...